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新聞資訊

CIF專注材料表面處理技術(shù),為客戶提供專業(yè)清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應(yīng)用工藝解決方案!
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科技賦能材料未來 · 共探材料微觀之美——CIF第七屆材料微結(jié)構(gòu)與性能學(xué)術(shù)會(huì)議圓滿收官!

發(fā)表時(shí)間:2025-05-19      點(diǎn)擊次數(shù):12

2025年5月15日-17日,由浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院主辦、浙江省材料研究學(xué)會(huì)協(xié)辦的第七屆材料微結(jié)構(gòu)與性能學(xué)術(shù)會(huì)議在杭州成功舉辦。本屆會(huì)議聚焦 “材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能” 四大核心領(lǐng)域,吸引了來自國內(nèi)外高校、科研院所及企業(yè)的千余名專家學(xué)者共襄盛舉。

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CIF攜等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)參加驚艷亮相!深度探討“材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能”等專題中的熱點(diǎn)、重點(diǎn)、難點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)等問題。交流相關(guān)研究成果與學(xué)術(shù)思想,產(chǎn)學(xué)研等前沿應(yīng)用,促進(jìn)材料學(xué)科建設(shè)與人才培養(yǎng)。

我司的展位憑借智能化、高精度、多場(chǎng)景適配的產(chǎn)品特性,吸引了眾多高??蒲袌F(tuán)隊(duì)、企業(yè)技術(shù)骨干及行業(yè)專家駐足交流。

  在本次展會(huì)上,CIF展示的等離子清洗機(jī)采用等離子體技術(shù),能夠有效去除材料表面的污染物,顯著提高工件表面的親水性。該設(shè)備在微電子、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,為行業(yè)提供了高效、環(huán)保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機(jī)同樣備受關(guān)注。它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用,對(duì)材料表面進(jìn)行深度清潔,可有效去除光刻膠殘留和有機(jī)物污染,特別適用于對(duì)表面潔凈度要求高微電子制造和光學(xué)器件生產(chǎn)等行業(yè)。

  勻膠機(jī)和烤膠機(jī)也展現(xiàn)出性能。勻膠機(jī)能夠精確控制涂覆厚度,確保材料表面均勻覆蓋,為后續(xù)工藝提供穩(wěn)定基礎(chǔ)??灸z機(jī)則具備快速升溫、精準(zhǔn)控溫等特點(diǎn),可滿足不同材料和工藝的烘烤需求,廣泛應(yīng)用于芯片制造、印刷電路板等領(lǐng)域。

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  在本次展會(huì)上,CIF展示的等離子清洗機(jī)采用的等離子體技術(shù),能夠有效去除材料表面的污染物,顯著提高工件表面的親水性。該設(shè)備在微電子、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,為行業(yè)提供了高效、環(huán)保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機(jī)同樣備受關(guān)注。它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用,對(duì)材料表面進(jìn)行深度清潔,可有效去除光刻膠殘留和有機(jī)物污染,特別適用于對(duì)表面潔凈度要求的微電子制造和光學(xué)器件生產(chǎn)等行業(yè)。

  勻膠機(jī)和烤膠機(jī)也展現(xiàn)出性能。勻膠機(jī)能夠精確控制涂覆厚度,確保材料表面均勻覆蓋,為后續(xù)工藝提供穩(wěn)定基礎(chǔ)??灸z機(jī)則具備快速升溫、精準(zhǔn)控溫等特點(diǎn),可滿足不同材料和工藝的烘烤需求,廣泛應(yīng)用于芯片制造、印刷電路板等領(lǐng)域。

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